联系人及邮箱：王科范 kfwang@henu.edu.cn
放置地点：B座216房间；
设备简介：型号：HLD-3；生产厂家：北京北仪创新真空技术有限责任公司；
仪器主要用途：
制备p型、i型和n型非晶/微晶硅薄膜，制备异质结硅薄膜太阳电池，沉积制备氮化硅、氧化硅、GeSi薄膜。
主要规格及技术指标：
1.极限真空5×10-5 Pa；
2.真空系统，分子泵+机械泵；
3.工作室温度，室温-500 ℃；
4.工艺气体，SiH4，B2H6，PH3，CH4，H2，Ar，GeH4。
简介